公司在洁净领域拥有较高的知名度，特别是在医疗、医药行业，通过十几年近百个净化项目的施工实践，对医院手术室、ICU、中心供应室、重点实验室、洁净病房、GMP规范洁净厂房等积累了丰富的实践经验。工程涉及范围：医院、电子、食品、生化、化妆品等多种行业的洁净工程。公司在设计建造方面力争做到科学合理，厂房净化车间，使操作更方便、更安全、更高效。
公司还生产销售系列彩钢板、过滤器、风淋室、超净台、生物安全柜、层流罩、自净器、传递窗、采样车、臭氧机等净化产品，净化产品畅销全国。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，厂房净化，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，厂房净化，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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